设备名称:超高精度3D打印系统
设备型号:nanoArch®InS130
制造商:深圳摩方材料科技有限公司
设备名称:超高精度3D打印系统
设备型号:nanoArch®InS130
制造商:深圳摩方材料科技有限公司
主要功能:
主要性能指标:
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:光敏树脂
光学精度:2 μm
打印层厚:5~20 μm
打印样品尺寸:
模式1:3.84mm(L) ×2.16mm(W) × 10mm(H)(单投影模式)
模式2:38.4mm(L) × 21.6mm(W) × 10mm(H)(拼接模式)
模式3:50mm(L) × 50mm(W) × 10mm(H)(拼接模式)
主要用途:
采用面投影微立体光刻技术,可实现三维复杂样件的快速、精密制造,并能有效兼顾微尺度细节和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的三维样件制作。适合微型机器人,微型传感器,微流控芯片,精密器件,微型结构件等复杂精密件的打印。