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激光直写仪

设备名称：激光直写仪

型号：µMLA

制造商：Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH


主要功能：

主要性能指标：

1. 可实现最小线宽1μm；

2. 线宽均匀性 (Linewidth variation) [3, nm] ≤300 nm。

3. 直写光刻速度 

在1um 分辨率下，30mm²/min； 在2um 分辨率下，60mm²/min；

在4um 分辨率下，100mm²/min；

4.光源: 390nm LED, 9W, 一般使用寿命＞10,000hrs

5. 具有绘图曝光模式 (Draw Exposure Mode Function )

6.图形套刻功能，套刻对准精度[3, nm] ≤ 1 μm @50*50mm²。

图形套刻功能，套刻对准精度[3, nm] ≤ 0.5 μm @5*5mm²。

7.工作平台

单片式真空吸附功能；

可接受最大基板尺寸:125×125mm²；

可接受最小基板尺寸: 5 x 5 mm²；

最大光刻面积: 100 x 100 mm²；

基板可接受厚度: 0.1 to 12 mm。

主要用途：

激光直写设备，可以直接快速的生成微结构，制作微纳米器件，给科研带来更多的快捷性和便利性。